摆脱对ASML的依赖?HUAWEI新专利入局光刻机:造Kirin不再是幻想?

最近中国国家知识产权局公布了HUAWEI的一项新专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A)。此项专利与EUV光刻机有关。这对HUAWEI来说无疑是一利好消息,外界也开始纷纷猜测,HUAWEI这是要开始自研光刻机了以摆脱对ASML的依赖。

众所周知,由于美国的禁令,让HUAWEI的Kirin处理器受挫。因此HUAWEI入局光刻机可以说是一个好消息,如若成功,猜测后续HUAWEI会推进处理器的研发和设计。

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目前中国的芯片和光刻机的制造能力,要比世界先进水平落后一大截,以芯片制造工艺为例子,目前国际最先进的台积电已经能够量产5nm制程的芯片,而中国最先进的中芯国际只能量产14nm制程的芯片,中间差了3代的差距。

尽管HUAWEI很早就意识到自研芯片的重要性,斥巨资成立海思半导体芯片研发部门,但是若芯片若无法被量产出来,也是纸上谈兵。如今关于光刻机相关专利的出炉,也许对芯片自研带来新的进展。

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