黄仁勋近日在GTC 2025大会访谈中表示，依靠环绕栅极（GAA）晶体管的下一代制程技术，将为新一代GPU带来20%的性能提升。

外界推测，黄仁勋所说新一代GPU，应该是指预计在2028年推出的Feynman。

黄仁勋在访谈中淡化了制程节点变化的重要性。他指出，摩尔定律的放缓使得新一代制程技术在晶体管密度、功耗和能效方面的改进空间变小，预计只能带来约20%的性能提升，而非过去的大幅跃进。

“我们当然会接受更先进的工艺，但它们已经不再具有变革性，”黄仁勋表示。随着 AI 计算需求的增长，管理大规模 GPU 集群的效率变得比单颗 GPU 的性能更为关键。

目前，NVIDIA 并未立即采用台积电的最先进工艺，而是倾向于使用相对成熟的技术。例如，现阶段 Ada Lovelace、Hopper 和 Blackwell GPU 采用的是台积电 4nm（改良版 5nm）工艺，而下一代 Rubin 架构 GPU 预计将采用 3nm（N3P 或定制版本）。

因此，NVIDIA首款采用 GAA 晶体管的 GPU 预计会出现在 2028 年的 Feynman 架构上。但值得注意的是，黄仁勋并未透露具体采用哪家厂商的 GAA 制程。台积电 N2、Samsung GAA，甚至 Intel 18A 都有可能成为 NVIDIA 的选择。

GAA（Gate-All-Around）晶体管技术相比当前 FinFET 设计，能够提供更好的栅极控制，减少漏电流，提高能效，同时在更小的尺寸上集成更多晶体管。因此，即便摩尔定律放缓，这项技术仍能为新一代 GPU 带来 更高的计算密度与功耗优化，特别是在 AI 计算领域带来更大助力。

随着 NVIDIA、台积电、Samsung和 Intel 在先进制程上的竞争愈发激烈，GAA 技术能否真正成为 AI 计算时代的关键转折点，仍有待观察。

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黄仁勋：NVIDIA 下一代 GPU 将采用 GAA 晶体管，性能提升 20%！